關於超音波清洗

在超音波洗淨的領域裡，主要分為低頻（20 ~ 100 KHz）做零件清洗、中頻（100K ~ 500KHz）精密零件清洗、高頻（750KHz 以上）清洗晶圓、LCD 面板等。低頻的清洗方式主要是利用空穴現象所產生的真空氣泡，在碰到被洗物後爆炸，將污物等彈離出來；高頻的清洗則是利用水分子的劇烈摩擦與移動，以加速度力將汙物剝離出來；而中頻則包含了以上兩種的清洗方式。由於清洗的方式不同，在半導體與 LCD 的製程上是幾乎不使用低中頻的清洗方式，因為會使晶圓、LCD 上的圖形損傷，而導致漏電等現象。

清洗的方式與技巧有很多，是否能達到洗淨之要求，則依各製程的設計與方式而定。以最基本的洗手觀念來說，你需要水（介質）、水溫（溫度）、肥皂（藥液）、搓手（動力）、時間（長短）等，來決定洗淨之效果。把它帶用到晶圓、LCD 等的清洗，就是介質（水、藥液：化學現象）、溫度、超音波（動力：物理現象）、及時間等。另外，你要考慮的是清洗的有效距離、是否有遮蔽物影響及搭配的機構是否能幫助你解決相關的清洗問題。

依原理上，頻率越高可去除的顆粒越小如 100KHz 為 0.3u 以上顆粒去除、1MHz 為 0.2u 以上的去除。頻率越高其有效距離也越短，所以習慣上在 8 吋晶圓的清洗上，大部分為 1MHz、而在 12 吋則為 750KHz 左右。